Ieee Transactions On Plasma Science

Ieee Transactions On Plasma Science英文簡(jiǎn)介

The scope covers all aspects of the theory and application of plasma science. It includes the following areas: magnetohydrodynamics; thermionics and plasma diodes; basic plasma phenomena; gaseous electronics; microwave/plasma interaction; electron, ion, and plasma sources; space plasmas; intense electron and ion beams; laser-plasma interactions; plasma diagnostics; plasma chemistry and processing; solid-state plasmas; plasma heating; plasma for controlled fusion research; high energy density plasmas; industrial/commercial applications of plasma physics; plasma waves and instabilities; and high power microwave and submillimeter wave generation.

Ieee Transactions On Plasma Science中文簡(jiǎn)介

《Ieee Transactions On Plasma Science》是一本由IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC出版商出版的專業(yè)物理期刊，該刊創(chuàng)刊于1973年，刊期Bimonthly，該刊已被國際權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCI、SCIE收錄。在中科院最新升級(jí)版分區(qū)表中，該刊分區(qū)信息為大類學(xué)科：物理 4區(qū)，小類學(xué)科：物理：流體與等離子體 4區(qū)；在JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)等級(jí)為Q4。該刊發(fā)文范圍涵蓋物理：流體與等離子體等領(lǐng)域，旨在及時(shí)、準(zhǔn)確、全面地報(bào)道國內(nèi)外物理：流體與等離子體工作者在該領(lǐng)域取得的最新研究成果、工作進(jìn)展及學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)、技術(shù)革新等，促進(jìn)學(xué)術(shù)交流，鼓勵(lì)學(xué)術(shù)創(chuàng)新。2021年影響因子為1.368，平均審稿速度約3.7個(gè)月。

中科院分區(qū)最新升級(jí)版（當(dāng)前數(shù)據(jù)版本：2021年12月最新升級(jí)版）

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
物理與天體物理	3區(qū)	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	4區(qū)	否	否

JCR分區(qū)（當(dāng)前數(shù)據(jù)版本：2021-2022年最新版）

JCR分區(qū)等級(jí)	JCR所屬學(xué)科	分區(qū)	影響因子
Q4	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	Q4	1.368

期刊指數(shù)

影響因子	h-index	Gold OA文章占比	研究類文章占比	OA開放訪問	平均審稿速度
1.368	98	2.29%	99.42%	未開放	約3.7個(gè)月

IF值(影響因子)趨勢(shì)圖